余氯和总氯分析仪器

Bebur(巴倍尔)BT6108-CL系列余氯和总氯分析仪，传感器采用膜装置，不受PH值变化的影响，不使用试剂，性能稳定，可以减少维护量和节省用户使用成本。

加氯工艺；远程站点；冷却塔；食品制备、饮品加工、泳池水处理行业；造纸厂；二级氯化处理；二次供水。

过程控制稳定，不使用化学反应试剂，节省使用成本，适用于大多数的饮用水和水处理行业，6个月的免维修期，3个月的免标定期。

BT6108-CL系列余氯和总氯分析仪的传感器使用膜式安培法原理进行样品测量，传感器上的微孔疏水膜可以让余氯（HCLO和CLO离子）或者是总氯（HCLO，CLO离子和结合氯）进入传感器内。在传感器内，这个过程将大多数的CLO离子转换成HCLO，HCLO在黄金工作电极处消耗得到mg/l的数量或ppm数值。

BT6108-CL系列余氯和总氯分析仪，电解液和渗透膜把电解池和水样品隔开，渗透膜可以选择性让ClO穿透；在两个电极之间有一个固定电位差，生成的电流强度可以换算成余氯浓度；在阴极上：ClO+2H+2e → Cl+H2O；在阳极上：Cl+Ag→AgCl+e；由于在一定温度和pH值条件下，HOCl、ClO和余氯之间存在固定的换算关系，通过这种方式可测量余氯。

Bebur(巴倍尔)公司开发的BT-6108控制器，它可以连接两支不同类型的传感器，实现水质的测量和控制。

多样化的通讯方式

标准配置4-20mA模拟输出，可选择Profibus、Modbus ASCII、Modbus RTU、Modbus TCP通讯方式。

PID控制选项

BT-6108控制器可同时配置两个传感器(可以是不同类型的)。控制器可以拥有与传感器信号成比例的模拟信号输出功能，可选的PID功能可以控制处理复杂的水处理过程项目。

传感器维护提醒

BT-6108控制器可根据维护计划日程定时提醒用户对设备进行操作和校准。如需要使用远程访问功能的用户应该选择BT-6208控制器。

Bebur(巴倍尔)公司开发的BT-6208控制器，它可以连接多支不同类型的传感器，实现多种水质的测量和控制。

多样化的通讯方式

4g调制解调器，实现GPRS通信，让客户可以远程访问控制器。BT-6208控制器可选通讯包括4-20mA、Modbus ASClI/RTU、Modbus TCP及其他的一些通讯方式。

更多的传感器配置

BT-6208控制器拥有与传感器信号成比例的模拟信号输出功能，可选的PID功能可以控制处理复杂的水处理过程项目。

安全性

用户可设置自己的登录密码,三个安全等级的仪器防护和远程访问安全保护，让您可以放心使用BT-6208控制器全部功能。

传感器维护提醒

BT-6208控制器可根据维护计划日程定时提醒用户对设备进行操作和校准。用户可选择配置远程访问功能。

测量范围：0.01-2,0.05-5,0.05-10,0.05-20,0.5-200（ppm或mg/L）

分辨率：0.001,0.01,0.1

稳定性：±1%/每月

工作电极：金

反电极：不锈钢

参比电极：银/卤化银

膜材料：多孔亲水膜

流量：约500ml/min

温度范围：0-45℃

温度补偿：由集成热敏电阻自动完成

pH值范围：pH4-9

初次极化时间：约2小时

再次极化时间：约30分钟

响应时间：T90：约120秒

零点校准：不需要

校准：使用DPD进行校准

材料：PVC-U，不锈钢，微孔亲水膜，硅胶

外形尺寸：直径25mm，长度190mm
干扰：CIO2,O3

测量范围：0.005-2（ppm或mg/L）

分辨率：0.001

稳定性：≤3%/每月

工作电极：金

反电极：不锈钢

参比电极：银/卤化银

膜材料：多孔亲水膜

流量：约500ml/min

温度范围：0-45℃

温度补偿：由集成热敏电阻自动完成

pH值范围：pH6.5-9

初次极化时间：约2小时

再次极化时间：约30分钟

响应时间：T90：约120秒

零点校准：不需要

校准：使用DPD进行校准

材料：PVC-U，不锈钢，微孔亲水膜，硅胶

外形尺寸：直径25mm，长度195mm
干扰：CIO2,O3,还原剂

测量范围：0-0.5,0-2，0-5,0-10,0-20（ppm或mg/L）

分辨率：0.001,0.1

稳定性：±1%/每月

工作电极：金

反电极：不锈钢

参比电极：银/卤化银

膜材料：微孔疏水膜

流量：约500ml/min

温度范围：0-45℃

温度补偿：由集成热敏电阻自动完成

pH值范围：pH4-12

初次极化时间：约2小时

再次极化时间：约30分钟

响应时间：T90：约120秒

零点校准：不需要

校准：使用DPD进行校准

材料：PVC-U，不锈钢，微孔疏水膜，PEEK，硅胶

外形尺寸：直径25mm，长度190mm

干扰：CIO2,O3